Intel이 ASML에 총 41억달러를 투자할 것이라고 발표했다. 이는 450mm 웨이퍼 용 lithography 장비 및 EUV (extreme ultra-violet) 장비 개발을 앞당기기 위한 것이라고 밝혔다. 지금까지와는 달리 장비 개발 투자 부담을 반도체 제조 업체가 반도체 장비 업체와 함께 나누는 첫번째 사례이다. 장비의 공동 R&D와 더불어 장비 개발 후 장비 구입을 확약하는 의미가 있다고 판단된다. 최근 공정개발의 난이도 상승, 공정 전환 비용 확대 등의 추세 속에서 반도체 제조 업체들과 ASML의 협력은 반도체 산업의 지속적 기술 발전을 위한 중요한 토대가 될 전망이다.
아래의 이미지를 클릭하시면 PDF 파일을 보실 수 있습니다.
No comments:
Post a Comment